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작성자 관리자

댓글 0건 조회 398회 작성일 2015-08-29 11:08

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NIT LAB 박사 과정, 홍슬기 학생의 제20회 한국반도체학술대회(KCS2013)에서 발표된 논문

"CVD를 이용한 그래핀의 전자기 차폐효과" 가

 

기업체(SK하이닉스) 논문으로 선정되었습니다.

축하합니다.

2013.12.12

(사진 : 2014.02.25 제 21회 한국반도체학술대회 논문 시상식)

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• KCS_HSK.png (395.2K) 10회 다운로드 | DATE : 2018-04-16 16:45:20

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