Journals

  • Home
  • Publication
  • Journals
High-performance MIM Capacitor using ALD high-K HfO2-Al2O3 laminate dielectrics
Journal
IEEE Electron Device Lett.
Author
S. J. Ding, H. Hu, H. F. Lim, S. J. Kim, X. F. Yu, C. Zhu, M. F. Li, B. J. Cho, D. S. H. Chan, S. Rustagi, M. B. Yu, A. Chin, and D. L. Kwong
Year
2003
Date
Dec. 2003.

S. J. Ding, H. Hu, H. F. Lim, S. J. Kim, X. F. Yu, C. Zhu, M. F. Li, B. J. Cho, D. S. H. Chan, S. Rustagi, M. B. Yu, A. Chin, and D. L. Kwong, "High-performance MIM Capacitor using ALD high-K HfO2-Al2O3 laminate dielectrics," IEEE Electron Device Lett., vol. 24, no. 12, pp. 730-732, Dec. 2003.