High-performance ALD HfO2-Al2O3 laminate MIM capacitors for RF and mixed signal IC applications
- Year
- 2003
- Author
- H.Hu, S. J. Ding, H. F. Lim, C. Zhu, M. F. Li, S. J. Kim, X. F. Xu, J. H. Chen, Y. F. Yong, B. J. Cho, D. S. H. Chan, S. Rustagi, M. F. Yu, C. H. Tung, A. Y. Du, P. D. Foo, A. Chin, D. L. Kwong,
- Conference
- International Electron Device Meeting (IEDM)
H.Hu, S. J. Ding, H. F. Lim, C. Zhu, M. F. Li, S. J. Kim, X. F. Xu, J. H. Chen, Y. F. Yong, B. J. Cho, D. S. H. Chan, S. Rustagi, M. F. Yu, C. H. Tung, A. Y. Du, P. D. Foo, A. Chin, D. L. Kwong, "High-performance ALD HfO2-Al2O3 laminate MIM capacitors for RF and mixed signal IC applications", International Electron Device Meeting (IEDM), Dec. 2003, Washington, USA.
Dec. 2003
Washington, USA.