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3D NAND Flash Memory용 Boron Oxynitride 터널링 층의 전하 트랩 준위 및 TAT 기반 Retention Loss 분석 
Year
2026 
Author
강대현 
Co-author
정재중, 박영근, 김영준, 조병진 
Conference
2026 반도체공학회 하계종합학술대회 
1. 한국과학기술원 전기 및 전자공학부
2. 한국과학기술원 반도체공학대학원