Metal ALD
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작성자 JIT
댓글 0건 조회 637회 작성일 2018-04-12 15:54
본문
Equipment : Metal ALD
Model : ATOMIC PREMIUM (CN1)
Application:
-Metal ALD process
General information
- Chuck: 8’’ Diameter wafer
- Materials – Precursor: TiCl4, TDMAT, MABONi, TMA
- Materials – Reactants: Ar, N2, H2, NH3
- Wafer temperature: 170 ~ 400℃
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