Sputtering System
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작성자 JIT
댓글 0건 조회 650회 작성일 2018-04-12 15:49
본문
Equipment : Multi Target Sputtering System
Model : AJA-International Inc. A330
Application:
- Metal & Dielectric Deposition by sputtering
General information
- Target Dimension : 3 inch
- Material : Metal & Dielectric
- Process Gas: Ar, O2, N2
- Power Source: DC (2), AC (2)
- Capable of up to 8 inch Si wafer process (only CMOS)
- Base pressure < 5×10-7 torr
첨부파일
- Sputtering System.png (689.5K) 3회 다운로드 | DATE : 2018-04-12 15:48:25
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